据美国司法部网站10月1日公布的消息，家住美国马萨诸塞州的华裔余浩洋（Yu Haoyang，音译）夫妇和他们开办的公司因涉嫌偷盗一家美国公司的半导体商业秘密，被起诉到联邦法院。
根据起诉书的内容，余浩洋现年41岁，来自哈尔滨，2002年以学生身份来到美国，2017年归化成为美国公民。2014年至2017年期间，余浩洋受雇于美国半导体公司Analog Devices, Inc. (ADI)，担任工程师。
在此期间，余浩洋下载了数百份高度机密的集成电路设计和模型文件，价值数百万美元，并违规将这些文件存入了他个人的谷歌云端硬盘。
2017年，余浩洋从这家美国公司辞职之前，与他的妻子共同成立了另一家半导体公司，并开始推广和销售他从ADI公司获取的软体设计，甚至利用ADI公司的台湾制造商为他制造和ADI同样的集成电路部件。
余浩洋2017年从ADI辞职时，曾签署保密文件，并声明已经交还了所有的专卖信息和数据，但此后他实际仍将上诉信息存在个人电脑和网盘中。余浩洋的妻子协助了他的欺诈行为。
起诉书还指控余浩洋在2017年申请美国公民身份时，没有诚实披露他拥有ADI公司商业秘密的信息。
（责编：王允）